器件集成设计岗（刻蚀）(J52388)

1、负责RIBE设备及核心工艺设备与技术，进行工艺评估并建立标准工艺流程； 2、负责SiC 与 玻璃基板上 TiO2，倾斜光栅刻蚀，以及ICP刻蚀硬掩模的工艺评估及标准工艺流程的简历。

1、本科及以上学历，5-10年左右相关工艺研发经验； 2、 掌握离子刻蚀工艺原理，熟悉刻蚀设备操作与参数调试； 3、能独立开发原理验证阶段 ICP 与 RIBE 刻蚀工艺，优化样机阶段刻蚀参数，解决刻蚀过程中图形保真度、表面粗糙度等问题； 4、了解衍射光栅刻蚀工艺与光栅结构，有解决工艺难点的经验。